Chloride- assisted of 2D- Copper telluride by chemical deposition and the investigation of thermal properties

Min-Hsuan Tsai^1*, Yu-Ze Chen¹, Sheng-Chieh Hsu¹

¹材料工程及科學系, 國立成功大學, 台南市, Taiwan

* Presenter:Min-Hsuan Tsai, email:asdf2101277@gmail.com

本實驗使用氯化物來輔助化學氣相沉積合成二維碲化亞銅成功地使製成溫度降低成500 °C。藉由材料分析去證實產物為表面平整的碲化亞銅且元素比例為2:1。經過改變實驗參數探討使沉積的厚度可控制於70~ 18 nm並且成功沉積於不同基板以利於元件的製備。並且探討厚度與熱導性質的影響，因為碲原子的重量較重且該材料為層狀排列經過熱探針掃描顯微鏡量測發現有較高的熱阻。

Keywords: 2D- materials, Copper telluride, Chemical vapor deposition, Chloride, Transition metal chalcogenides